在今日的市场动态中，汇成真空（301392）公司宣布了一项重大的技术进展，即其最新研发的原子层沉积（ALD）设备。这款设备专为先进逻辑芯片、DRAM和3DNAND的制造设计，旨在满足不断增长的半导体市场需求。尽管当前该设备尚处于研发阶段，但其潜在应用可能会对整个智能设备行业产生深远的影响。

2015年2月，美国商务部悄悄更新了一则声明，五千多个单词重点讲了一件事：取消向中国出口等离子刻蚀机的限制。国人对半导体设备禁令的印象，大多始于2019年声势浩大的科技战，但早在互联网还没有记忆的1996年，美国就集结了“巴统” ...

在薄膜沉积设备领域实现了“从0到1”的突破之后，拓荆科技开始逐步形成“从1到N”的产品布局。拓荆科技先后研制并推出了ALD设备、SACVD设备 ...

证券之星消息，根据天眼查APP信息整理，1月13日公布的《华润微电子(重庆)有限公司原子气相沉积ALD设备购买谈判采购结果公告》中显示江苏微导 ...

根据AI大模型测算微导纳米后市走势。短期趋势看，该股当前无连续增减仓现象，主力趋势不明显。主力没有控盘。中期趋势方面，上方有一定套牢筹码积压。近期该股获筹码青睐，且集中度渐增。舆情分析来看，目前市场情绪极度悲观。

在A股市场，以半导体装备为主业的辽宁上市公司中，拓荆科技(688072)是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD及混合键合设备领军企业。截至2024年6月底，拓荆科技已累计 ...